一、地面地坪要求：

GMP標準是為了保證藥品在規(guī)定的質(zhì)量下持續(xù)生產(chǎn)的體系，它是為了把藥品生產(chǎn)過程中的不合格的危險降低到最小而訂立的。        

GMP包含方方面面的要求，廠房到地面、設備、人員和培訓、衛(wèi)生、空氣和水的純化、生產(chǎn)和文件等。GMP標準中對潔凈度要求分為A、B、C、D四個級別。

A級：高風險作業(yè)區(qū)，如罐裝區(qū)、放置膠塞通和無菌制劑直接接觸的敞口包裝容器的區(qū)域及無菌裝配或鏈接操作的區(qū)域，通常用層流操作臺（罩）維持該區(qū)的環(huán)境狀態(tài)。層流系統(tǒng)在其工作區(qū)域必須均勻送風，風速為0.36-0.45m/s（指導值）。應當有數(shù)據(jù)證明層流的狀態(tài)并經(jīng)過驗證。在密閉的隔離操作器或手套箱內(nèi)，可使用單向流或較低的風速。

B級：指無菌配置和罐裝等高風險操作A級潔凈區(qū)所處的背景區(qū)域。C級和D級：致無菌藥品生產(chǎn)過程中重要程度較低的潔凈操作區(qū)。

A、B、C、D四個級別潔凈要求：

A、B級：相當于百級潔凈區(qū)，A級的背景環(huán)境要高一些，要求更嚴一些。

C級：相當于萬級潔凈區(qū)；

D級：相當于十萬級潔凈區(qū)。

二、產(chǎn)品推薦：

A級區(qū)域：水性環(huán)氧自流平地坪、環(huán)氧彩砂自流平地坪、無溶劑環(huán)氧自流平地坪；

B級區(qū)域：水性環(huán)氧自流平地坪、環(huán)氧彩砂自流平地坪、無溶劑環(huán)氧自流平地坪；

C級區(qū)域：環(huán)氧彩砂自流平地坪、環(huán)氧砂漿地坪、耐磨硬化劑地坪；

D級區(qū)域：環(huán)氧彩砂自流平地坪、環(huán)氧砂漿地坪、耐磨硬化劑地坪；